技術編號：2729201
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種用于光通訊、光記錄、光傳感等方面的偏光元件，及其制造方法。第二種常規(guī)偏光元件的制造方法，是采用薄膜形成工藝交替層壓總數(shù)為100層或更多的電介質(zhì)薄膜和金屬薄膜，這樣具有獲得了偏光性能的多層偏光元件。但在第一種常規(guī)偏光元件的制造方法中，由于基質(zhì)被拉伸且形成金屬粒子層，在熱拉伸后交替層壓膜表面產(chǎn)生了變形并變得粗糙。這會引起如偏光元件偏光性能的變差，及由于散射造成損失增加等問題。在第二種常規(guī)層壓偏光元件中，由于薄金屬膜與薄電介質(zhì)膜的粘合較弱，薄膜極易...
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