技術(shù)編號：2730258
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，所述組合物適合用于在用于超大規(guī)模集成電路或大容量微芯片等的制造的超微光刻法或其他光加工方法中使用，并且本發(fā)明還涉及使用所述組合物形成圖案的方法。更具體地，本發(fā)明涉及當(dāng)曝光光源是ArF準(zhǔn)分子激光或KrF準(zhǔn)分子激光時尤其有用的光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，并且還涉及使用所述組合物形成圖案的方法。在本發(fā)明中，術(shù)語“光化射線”和“輻射”意指，例如，來自汞燈的亮線光譜、以準(zhǔn)分子激光為代表的遠(yuǎn)紫外線、極紫外、X射線、電子...
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