技術(shù)編號:2734620
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻機(jī)投影物鏡波像差,特別是一種。背景技術(shù)投影物鏡是光刻機(jī)系統(tǒng)的核心部件之一。投影物鏡波像差是影響步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)性能的重要指標(biāo),可以用澤尼克多項式及其系數(shù)來表征。波像差直接影響光刻機(jī)成像質(zhì)量、光刻分辨率以及關(guān)鍵尺寸(CD)均勻性等光刻技術(shù)指標(biāo),因此投影物鏡波像差是光刻機(jī)中最關(guān)鍵的檢測指標(biāo)之一。隨著光刻技術(shù)的特征尺寸不斷減小,光刻機(jī)投影物鏡的像差容限變得越來越嚴(yán)苛。光刻投影物鏡的波像差檢測需求從低階像差擴(kuò)展到高階像差,從在這種前提下,研發(fā)能夠高...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。