技術(shù)編號：2736889
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明總體上涉及從襯底表面選擇性去除光致抗蝕 劑、有機覆蓋層及聚合物殘留物的等離子體灰化處理，具 體而言，涉及用于監(jiān)測在基本無氧和氮的等離子體中的氧 和/或氮物種的方法。背景技術(shù)灰化是一種等離子體介導(dǎo)的剝除方法，根據(jù)該方法， 通過暴露于等離子體中從襯底上剝除或去除光致抗蝕劑、 有機覆蓋層和/或聚合物殘留物?；一ǔ０l(fā)生在蝕刻處理 進行后，在所述蝕刻處理中使用光致抗蝕劑材料作為用于 在襯底中蝕刻出圖案的掩模?；一幚硪灿糜谌コ嬖诘钠渌袡C層，如抗反射涂層(...
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