技術(shù)編號：2737524
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于補償光學(xué)系統(tǒng)、尤其是微光刻系統(tǒng)的投影透 鏡陣列中由于強度分布所產(chǎn)生的圖像誤差的方法，以及涉及相應(yīng)的光 學(xué)系統(tǒng)，尤其是微光刻系統(tǒng)的投影透鏡陣列。背景技術(shù)補償光學(xué)系統(tǒng)中可能由光學(xué)元件的高熱負(fù)荷造成的偏差是已知的 現(xiàn)有技術(shù)。例如DE 100 40 998描述了 一種投影透鏡陣列，其中選擇對材料的 挑選和針對至少一個鏡面和針對至少一個透鏡的位置選擇，使得鏡面 和透鏡的照度變化所引起的圖像變化相互抵〉'肖。美國專利6,504,597 B2描述了一種...
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