技術(shù)編號：2737630
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于對輻射敏感村底曝光的投影曝光方法和適用于執(zhí) 行該方法的投影膝光系統(tǒng)，該輻射敏感村底布置在投影物鏡的像面區(qū) 域內(nèi)，使掩模圖案的至少一個(gè)圖像布置在該投影物鏡的物鏡表面區(qū)域 內(nèi)。背景技術(shù)顯微光刻投影膝光方法當(dāng)前被用來制造集成半導(dǎo)體器件及其他微 細(xì)結(jié)構(gòu)部件。需要使用帶有待成像結(jié)構(gòu)的圖案的掩模(標(biāo)線)，該圖 案例如是半導(dǎo)體部件的層的線條圖案。掩模被設(shè)置在位于照明系統(tǒng)和 投影物鏡之間的投影膝光系統(tǒng)中，在投影物鏡的物鏡表面區(qū)域內(nèi)，并 且該掩模由照明系統(tǒng)所提...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。