技術(shù)編號(hào):2739380
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域,尤其涉及一種光刻方法及系統(tǒng)。背景技術(shù)集成電路制造過(guò)程包括光刻等工藝流程。光刻通常是根據(jù)光刻工藝條件參數(shù)對(duì)待光刻產(chǎn)品進(jìn)行光刻,光刻工藝條件參數(shù)能夠影響到光刻結(jié)果。所述光刻工藝參數(shù)通常包括曝光能量(Energy),用于控制產(chǎn)品特征尺寸;聚焦平面(Focus),用于控制產(chǎn)品特征尺寸的剖面形狀;對(duì)準(zhǔn)模型參數(shù)(OVL, Overlap),用于控制產(chǎn)品與前層的對(duì)準(zhǔn)程度;以及曝光機(jī)器的數(shù)值孔徑(NA, NumericalAperture)和曝...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。