技術編號：2740238
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用于制作由光反應樹脂或光固化樹脂構成的結構的方法。該 光反應樹脂(光敏樹脂)通常稱為抗蝕劑并被顯影。該光固化樹脂用于立體 平板印刷技術。這些樹脂的共同點是使用光至少實現(xiàn)光反應。除非另外說明， 這些樹脂在本說明書中稱作"光反應樹脂"。背景技術如今對微結構的需求正在增加，該微結構例如由光反應樹脂構成的生物 元件和光器件。為制作微結構己經設計出應用光刻技術(曝光)和納米壓印 技術，在該光刻技術中，掩模圖案轉印到樹脂上，在該納米壓印技術中，模 具圖案被轉...
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