技術(shù)編號(hào)：2740375
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是關(guān)于一種反射折射型的投影光學(xué)系統(tǒng)、曝光裝置及曝光方 法，特別是關(guān)于一種適用于利用光刻蝕工程制造半導(dǎo)體元件和液晶顯示元 件等時(shí)所使用的曝光裝置的高析像的反射折射型的投影光學(xué)系統(tǒng)。背景技術(shù)在用于制造半導(dǎo)體元件等的光刻蝕工程中，使用一種將掩膜(或光柵) 的圖案像通過投影光學(xué)系統(tǒng)，在涂敷有光刻膠等的晶圓(或玻璃板等)上 進(jìn)行曝光的投影曝光裝置。而且，隨著半導(dǎo)體元件等的集成度的提高，投影 曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)所要求的析像能力(析像度)日益提高。結(jié)果，為了滿...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。