技術(shù)編號(hào):2741446
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種,屬于液晶顯示器制造。 背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷進(jìn)步,半導(dǎo)體制造技術(shù)也隨之快速發(fā)展。其中,薄膜晶體管 液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,以下簡(jiǎn)稱TFT-LCD)由于 具有體積小、功耗低以及無(wú)輻射等特點(diǎn)而被廣泛應(yīng)用。在現(xiàn)有的TFT-LCD或半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)制造過(guò)程中,平板型等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣 相沉積法(PECVD)被廣泛的應(yīng)用于非金屬成膜過(guò)程,相應(yīng)的等離子體蝕刻方法被廣泛地應(yīng)...
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