技術(shù)編號：2741449
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是一種基于光子篩的激光直寫光刻系統(tǒng)，屬于光學(xué)微細(xì)加工技術(shù)中用于納 米尺度器件制作的激光直寫光刻。 背景技術(shù)近年來，以先進(jìn)納米加工技術(shù)為先導(dǎo)，在信息安全、光電子器件、生物芯片、通 訊設(shè)備、雷達(dá)、導(dǎo)彈、人造衛(wèi)星等巨大市場需求的推動(dòng)下，納米尺度制造得 到了快速發(fā)展，品種繁多的納米器件不斷問世，使許多以往棘手的問題有了解決的途 徑。然而隨著半導(dǎo)體行業(yè)集成度的逐年提高，人們對用于納米尺度器件制作的光刻設(shè) 備的分辨力要求也因此越來越高。傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻通常...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。