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用以定義tft的源極、漏極與半導(dǎo)體層的圖案的灰階光罩的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:2742096

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本發(fā)明是關(guān)于一種用于定義薄膜晶體管的源極、漏極與半導(dǎo)體層的圖案的灰階光背景技術(shù)薄膜晶體管(TFT),已經(jīng)廣泛地應(yīng)用在大面積電子電路產(chǎn)品,如液晶顯示器 (LCD)、接觸式影像感測器(CIS)以及其他常見的消費型電子設(shè)備中,主要是扮演著控制元 件的角色。公知的薄膜晶體管包含一柵極電極、一源極、一漏極以及做為晶體管通道的一半 導(dǎo)體層,以現(xiàn)有的制作技術(shù)制作薄膜晶體管時,通常需要四次以上的微影制程來定義出薄 膜晶體管各個元件的圖案,為了降低制程成本,目前在定義薄膜晶...
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