技術(shù)編號(hào)：2742364
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)和液體在基片上曝光圖案的曝光 裝置和曝光方法以及器件制造方法。背景技術(shù)半導(dǎo)體器件和液晶顯示器件等微器件通過將形成在掩模上的圖案轉(zhuǎn)印到感光性的基片上的、所謂的光刻法的方法來進(jìn)行制造。在此 光刻法工序中所使用的膝光裝置具有支持掩模的掩模臺(tái)和支持基片的 基片臺(tái)， 一邊逐次移動(dòng)掩模臺(tái)及基片臺(tái)一邊經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)將掩模 的圖案轉(zhuǎn)印到基片上。由于上述微器件是在基片上重合多層圖案而形成，所以在將第2 層以下的圖案在基片上進(jìn)行投影曝光之際，精確地...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。