技術編號：2742378
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及光刻機，特別是一種用于光刻機的離軸照明裝置，實現(xiàn)雙環(huán)形、雙二極、雙四極照明模式的離軸照明。背景技術隨著芯片集成度的不斷提高和超大規(guī)模集成電路技術的發(fā)展，需要不斷提高光刻機的分辨率和焦深。如何提高光刻機的分辨率和焦深是目前的研究熱點。減小光刻機的曝光波長、提高投影物鏡的數(shù)值孔徑或者減小工藝因子都是能夠提高光刻機分辨率的有效手段，但是在采用上述手段的同時，會使投影物鏡的焦深急劇減小。通過采用離軸照明等方式可以在提高光刻機分辨率的同時增加焦深?？蒲腥藛T...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。