技術(shù)編號：2743955
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及設(shè)置有具有反射抑制效果(抗反射功能)的結(jié)構(gòu)的光 學(xué)元件，并且涉及包含所述光學(xué)元件的光學(xué)裝置。背景技術(shù)一般地，在由透明部件形成的光學(xué)元件的至少一個表面上，通過 使用以氣相沉積和濺射為代表的成膜方法形成具有抗反射功能的薄 膜。但是，這樣的成膜方法限制可用于成膜的材料，這使得難以獲得 具有任意的折射率的薄膜。日本審查專利公布No. 61-51283公開了用于通過選擇性引入具有 高折射率的薄膜和具有低折射率的薄膜并通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)定引入的薄膜 的厚度來實(shí)際上...
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