技術(shù)編號：2744029
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是一種關(guān)于在半導(dǎo)體集成電路或液晶顯示裝置等的制造中，用以制作光蝕刻步驟中所使用的曝光用的全像光罩的曝光方法及裝置，以及使用全像光罩的記錄方法。背景技術(shù) 由于近接式曝光、透鏡投影曝光或鏡面投影曝光等，將曝光用的光罩的曝光圖案直接成像在被曝光物的記錄方法中，具有與曝光光波長度相同程度的線寬的曝光圖案的解像，為了解決因光衍射現(xiàn)象所造成困難(所謂衍射效率界限)的不良情況，而有一種記錄方法，所述方法是使用具有稱之為移相器的相位調(diào)制層的移相光罩。在使用如此的移相...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。