技術編號：2745553
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種光刻裝置和用于校準該光刻裝置的方法。背景技術光刻裝置是一種將所需圖案作用于基底的目標部分上的機器。光刻裝置可以用于 例如集成電路(IC)的制造。在這種情況下，光刻構圖部件，可替換地稱作"掩模"或"中間 掩模版"，可用于產(chǎn)生對應于IC一個單獨層的電路圖案，該圖案可以成像在具有輻射敏感材 料(即抗蝕劑)層的基底(例如硅晶片)的目標部分上(例如包括部分、一個或者多個管 芯)。 —般地，單個基底將包含依次曝光的相鄰目標部分的網(wǎng)格。已知的光刻裝置包括 ...
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