技術(shù)編號：2745596
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種，主要用于半導(dǎo)體的激光打標(biāo)。 背景技術(shù)現(xiàn)有技術(shù)中，一直是采用激光諧振和反射鏡中由決定激光光點的光圈或光圈塊， 按照規(guī)定好的光點的型號進(jìn)行半導(dǎo)體打標(biāo)。這時候如果CAD所畫的字體或標(biāo)識的線寬距離 有線型變更時，因為品質(zhì)上的問題，就需要重新畫一個CAD圖。如此以來，不但會浪費很多 時間，而且又要做很多補助措施。結(jié)果導(dǎo)致不但工作效率低，而且非常不方便。采用普通光圈，因不能調(diào)節(jié)通過光圈的光通量，一定粗細(xì)的激光光點通過諧振后， 再經(jīng)過幾次反射后在被射體表...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。