技術(shù)編號：2745657
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種，該系統(tǒng)應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻機中，屬于半導(dǎo)體制造設(shè)備。 背景技術(shù)在集成電路芯片的生產(chǎn)過程中，芯片的設(shè)計圖形在硅片表面光刻膠上的曝光轉(zhuǎn)印 (光刻)是其中最重要的工序之一，該工序所用的設(shè)備稱為光刻機(曝光機)。光刻機的分 辨率和曝光效率極大的影響著集成電路芯片的特征線寬(分辨率)和生產(chǎn)率。而作為光刻 機關(guān)鍵系統(tǒng)的硅片超精密運動定位系統(tǒng)(以下簡稱為硅片臺系統(tǒng))的運動精度和工作效 率，又在很大程度上決定了光刻機的分辨率和曝光效率。 步進掃描投影光刻機基本...
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