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采用數(shù)字相移的無(wú)掩模光刻方法和裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2745850

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本發(fā)明涉及一種涉及增強(qiáng)光刻分辨率方法,特別是使用空間光調(diào)制器的無(wú)掩模光 刻機(jī)的相移掩模分辨率增強(qiáng)方法及其裝置。背景技術(shù)光刻技術(shù)是用于在襯底表面印刷具有特征的構(gòu)圖,這樣的襯底可包括用于制造平 面顯示器(例如液晶顯示器)、半導(dǎo)體器件、各種集成電路、電路板、生物芯片、微機(jī)械電子 芯片、光電子器件芯片等的基片。經(jīng)常使用的基片是表面涂有感光介質(zhì)的半導(dǎo)體晶圓或玻璃基片ο在光刻期間,芯片放置在芯片臺(tái)上,通過(guò)曝光光學(xué)裝置,將圖像投射到芯片表面, 所投射的圖像引起涂覆在芯片...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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