技術(shù)編號(hào):2745851
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體,特別涉及到一種光掩模制造工藝中防止安裝保護(hù)膜 系統(tǒng)中的光掩模版安裝保護(hù)膜的定位出錯(cuò)的方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件制造的工藝中,關(guān)鍵工藝步驟之一的光刻工藝,就是將光掩模 (mask)上的圖案轉(zhuǎn)錄到晶圓片上。光掩模上具有半導(dǎo)體器件的電路和設(shè)計(jì)圖案。光掩模通 常包括一框架和一保護(hù)薄膜,它們視為光掩模系統(tǒng)的一部分??蚣苡靡怨潭ㄗ」庋谀#?定在框架上方的保護(hù)薄膜為一透明薄膜。保護(hù)膜(pcllicle)用于防止塵埃等雜質(zhì)掉到鉻 面和玻璃面上,而保護(hù)...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。