技術(shù)編號：2747461
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及一種光阻結(jié)構(gòu)，具體地說，涉及用于在浸沒式光刻制造的光阻復(fù)合結(jié)構(gòu)。 背景技術(shù)浸沒式光刻技術(shù)在深亞微米級制程中得到了比較廣泛的應(yīng)用，其原理是將液體作 為投影成像介質(zhì)置于主鏡頭和硅片之間，入射光線穿過液體，可以實現(xiàn)將版圖上的圖案投 影在硅片上，由于經(jīng)過液體的入射光其折射率比經(jīng)過空氣的折射率更高。比如空氣作為投 影成像的介質(zhì)時，數(shù)值孔徑僅能達(dá)到1. O，但使用了折射率為1. 44的去離子水后，數(shù)值孔徑 就能夠達(dá)到1.4。因此，可以賦予光刻機(jī)的鏡頭更高...
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