技術編號：2750506
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明一般涉及集成電路設計和制造領域，特別是涉及對制造集成電路所用的光 刻工藝(lithographic process)進行監(jiān)控的方法和裝置。背景技術在現(xiàn)有集成電路(IC)制造過程的工藝水平上，采用亞波長分辨率的IC印刷圖形， 它要求對構圖中的像差進行補償。因為制造出來的IC圖形不再是原設計的IC圖形的精確 復制品，光刻工藝中使用的掩模，要在掩模限定過程中用例如光學近似校正(OPC)法進行 校正，以補償這些不足。例如，為改善成像結果，在掩模中采用亞分辨率...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。