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以干微影或浸潤(rùn)式微影工藝來(lái)防止45-納米特征結(jié)構(gòu)尺寸中光阻材料的崩塌和毒化的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2750544

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本發(fā)明實(shí)施方式大致是關(guān)于制造半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)用的基板,更具體地說(shuō),是有關(guān)在光 阻圖案顯影過(guò)程中維持光阻黏附在一表面上的方法。背景技術(shù)圖案化及蝕刻技術(shù)中常會(huì)使用光阻材料在基板(無(wú)論此基板及配置于其上的材 料是用來(lái)制造電路板、平板顯示器、太陽(yáng)能電池或集成電路與否)上的沉積材料中形成結(jié) 構(gòu)。自從數(shù)十年前首次弓I進(jìn)集成電路之后,其尺寸已大幅縮小。從那時(shí)起,集成電路的 尺寸一般依循每?jī)赡昕s減一半的規(guī)則發(fā)展,此又稱為“摩耳定律”,代表芯片上的組件數(shù)目 每?jī)赡昙幢对?。今天的?..
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