技術編號：2751554
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及可用于例如通過光刻技術制造器件的檢查方法。具體地，本發(fā)明涉及一種用于在襯底上印刷標記的圖案，其用于測試光刻設備的與焦距和劑量相關的性質。本發(fā)明還涉及包含圖案的掩模、包含標記的襯底、印刷標記的曝光設備、測試標記的檢查設備以及所涉及的方法。背景技術光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底上，通常是襯底的目標部分上的機器。例如，可以將光刻設備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩?；蜓谀０娴膱D案形成裝置用于生成待形成在所述IC的單層上...
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