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光導(dǎo)體用含高分子材料的新型阻擋層的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2754638

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本發(fā)明涉及一種在靜電成像技術(shù)中用于實(shí)現(xiàn)復(fù)印、打印、傳真等功能的信息處理器件或裝置,尤其涉及一種含有高分子材料的有機(jī)光導(dǎo)體的阻擋層。背景技術(shù) 早期的光導(dǎo)體是采用鋁材作為基底,基底表面通過(guò)真空鍍膜方法鍍上一層無(wú)機(jī)光導(dǎo)材料,如氧化鋅(ZnO)、硒(Se)、硒碲合金(SeTe)、硒碲砷合金(SeTeAs)等半導(dǎo)體材料,從而形成單層型的無(wú)機(jī)光導(dǎo)體。由于無(wú)機(jī)光導(dǎo)體存在一些先天不足,如產(chǎn)品毒性大、成膜時(shí)間長(zhǎng)、成本高、品種少等缺點(diǎn),因此在80年代后期,由無(wú)毒性、性能好、成...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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