技術(shù)編號：2754661
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種在母板上旋涂聚合物并在其上鍵合基片的方法，具體是一種。用于納米。背景技術(shù) 在現(xiàn)有技術(shù)中通常采用光學(xué)光刻的方法來形成圖案，隨著光學(xué)曝光工具的成本增長，以及波長的減小，出現(xiàn)了許多重要的技術(shù)難題，如分辨率及材料的選擇；另外，光學(xué)光刻還具有不適合加工非平整表面和難以形成三維結(jié)構(gòu)等缺點(diǎn)。在下一代光刻技術(shù)中，電子束光刻生產(chǎn)效率太低；X線光刻的工具相當(dāng)昂貴。微轉(zhuǎn)移模塑是針對光學(xué)光刻的不足提出的加工微米納米結(jié)構(gòu)的新方法，首先采用在母板表面澆鑄的方法形成聚二甲...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。