技術(shù)編號：2757651
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及對形成有抗蝕劑膜、被曝光處理后的基板進(jìn)行顯影處理的技術(shù)。 背景技術(shù)在作為半導(dǎo)體制造工序之一的光致抗蝕劑工序中，在作為基板的半導(dǎo)體晶圓(以 下稱為晶圓)表面形成抗蝕劑膜，以規(guī)定的圖案對該抗蝕劑膜進(jìn)行曝光之后，向晶圓供給 顯影液而進(jìn)行顯影，形成抗蝕劑圖案。作為進(jìn)行顯影處理的方法，例如有使晶圓保持在作為 基板保持部的旋轉(zhuǎn)吸盤上、使該晶圓繞鉛垂軸線旋轉(zhuǎn)的同時一邊使顯影液噴嘴從晶圓的周 緣部的上方向中央部的上方移動、一邊噴出顯影液而進(jìn)行顯影處理的方法(專利...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。