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陣列基板及其形成方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2759576

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本發(fā)明是關(guān)于液晶顯示器的工藝,尤其是關(guān)于其陣列基板的形成方法。 背景技術(shù)目前制作液晶顯示器的陣列基板一般需要多達(dá)四至五道的光刻工藝,即需四至五道掩模。若是要采用三道掩模工藝,則需利用舉離(Lift-off)工藝。在舉離工藝中,先形成光阻圖案作為鍍膜犧牲層。接著形成鍍膜于光阻上及未被光阻圖案覆蓋的區(qū)域上,再將基板浸置于去光阻液。隨著光阻圖案去除,可一并將位于光阻圖案上的鍍膜剝離,達(dá)到節(jié)省掩模的工藝目的。然而一般TFT量產(chǎn)設(shè)備并不適合讓含有光阻的基板進(jìn)入沉積腔...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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