技術(shù)編號：2759592
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于納米加工，涉及一種基于移相原理提高分辨率的超衍射成像 器件及其制作方法。背景技術(shù)自2000年P(guān)endry提出“完美透鏡”和“超透鏡”的概念以后，基于表面等離子體 的超分辨成像光刻技術(shù)以其低成本、高效率以及高分辨率等優(yōu)點(diǎn)而受到人們的廣泛關(guān)注。 2005年Xiang. Z.首次從實驗上利用“超透鏡”在365nm光源下獲得60nm的超分辨光刻，新 西蘭R. J. Blaikie也對超透鏡成像光刻做了更深入的研究。然而，盡管“超透鏡”可突破衍 射極限，但...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。