技術(shù)編號：2759604
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種環(huán)境控制系統(tǒng)，具體的講是涉及一種光刻設(shè)備環(huán)境控制系統(tǒng)。技術(shù)背景在半導(dǎo)體生產(chǎn)領(lǐng)域，硅片曝光是光刻設(shè)備將掩模版上的集成電路圖形印刷到硅片上的過程。曝光過程中，光刻設(shè)備運行時對其內(nèi)部的溫度恒定性和空氣潔凈度有嚴(yán)格的要求。如果光刻設(shè)備運行時，其內(nèi)部的溫度產(chǎn)生漂移，則使半導(dǎo)體芯片的套刻精度降低；而光刻設(shè)備的空氣潔凈度低時，直接影響半導(dǎo)體芯片的良品率。為此，要采用溫度控制系統(tǒng)對光刻設(shè)備進(jìn)行恒溫控制?，F(xiàn)有技術(shù)的溫度控制系統(tǒng)， 如圖1所示，該溫度控制系統(tǒng)由熱...
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