技術(shù)編號：2760346
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及適合用各類輻射如遠(yuǎn)紫外輻射(deep ultravioletradiation)、電子束和X-射線顯微處理的包含有氟取代的環(huán)狀有機基團的聚硅氧烷的輻射敏感樹脂組合物。背景技術(shù) 近來對高密度和高度集成的LSI(大規(guī)模集成電路)的強烈需求從根本上加速了布線圖的微型化。在平版印刷技術(shù)中利用短波長輻射的方法是響應(yīng)微型化進展的手段之一。近年來，用遠(yuǎn)紫外線如F2準(zhǔn)分子激光(波長157nm)、ArF準(zhǔn)分子激光(波長193nm)、或KrF準(zhǔn)分子激光(波長248n...
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