技術編號：2764440
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及如在半導體曝光裝置中檢測分劃板與裝置及晶片與裝置的位置時自動對好對位置標志的最佳光學位置等情況下的一種，該方法在使用光學系統(tǒng)透鏡攝像時進行對焦時能夠合適地利用于必要的裝置。已往的自動對焦裝置或方法中，對攝像得到的圖像數(shù)據(jù)進行微分，用微分圖像數(shù)據(jù)作出評價函數(shù)，并將給出各光學位置上的評價函數(shù)的極值的位置作為對焦點。作為該評價函數(shù)，用微分圖像數(shù)據(jù)的絕對值的最大值或微分圖像數(shù)據(jù)的絕對值的總和(數(shù)1)S 1 =ΣnDn]]>或用微...
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