技術(shù)編號(hào)：2769285
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于包括導(dǎo)電光屏蔽層的光掩模的抗靜電方法。在電子束曝光裝置中，當(dāng)光掩模電子被充電時(shí)，電子束的軌跡被充電的電子彎折，從而不可能在光掩模上繪出準(zhǔn)確圖形。另一方面，光掩模一般是通過玻璃基片、玻璃基片上的由Cr制成的光屏蔽層、光屏蔽層上的由CrO制成的反射避免(reflection avoiding)層，以及反射避免層上的電子束阻擋(resist)層制成的。這個(gè)光掩模放置在電子束曝光裝置的暗盒(cassette)中，用于在其上繪制圖形。為避免光掩模中的電...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。