技術(shù)編號：2770613
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種抗蝕劑脫除劑、一種脫除抗蝕劑的組合物、其制備方法和采用該組合物脫除抗蝕劑的方法。具體而言，本發(fā)明涉及烷氧基N-羥基烷基鏈酰胺作為抗蝕劑脫除劑的用途、脫除抗蝕劑的組合物和其制備方法及采用該組合物除去抗蝕劑的方法?？刮g劑脫除過程是制備半導(dǎo)體部件的主要過程。在用于制備半導(dǎo)體部件的各種過程如蝕刻過程(干蝕刻或溫蝕刻)或離子注入過程完成后，必須除去作為掩蔽物使用的抗蝕劑圖案。另外，當(dāng)抗蝕劑圖案走樣時，也必須除去抗蝕劑圖案以形成新的抗蝕劑圖案。特別是，各...
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