技術(shù)編號(hào)：2772447
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光掩模制造方法和使用該方法的半導(dǎo)體器件制造方法。背景技術(shù) 近年來，要求光掩模的尺寸精度迅速變得嚴(yán)格起來，例如掩模面內(nèi)的尺寸均勻性，一般認(rèn)為需要10nm以下。光掩模的制造工序中，判斷合格品或不合格品的項(xiàng)目很多，現(xiàn)有只要這些項(xiàng)目之中一個(gè)項(xiàng)目不滿足規(guī)格的產(chǎn)品，就認(rèn)為是不合格品。但是，在要求光掩模的尺寸精度嚴(yán)格的現(xiàn)狀下，決定光掩模的成品率必然地惡化?，F(xiàn)有，要這樣決定光掩模的規(guī)格，即便各項(xiàng)目全部剛好成為規(guī)格值的臨界值的情況下，也獲得所要求的曝光裕度。但...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。