技術(shù)編號(hào)：2772839
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光刻投射裝置，包括-用于提供輻射投射光束的輻射系統(tǒng)；-用于根據(jù)理想的圖案對(duì)投射光束進(jìn)行構(gòu)圖的程控構(gòu)圖部件；-用于保持基底的基底臺(tái)；-用于將帶圖案的光束投射到基底的靶部上的投射系統(tǒng)。背景技術(shù) 光刻投影裝置用于集成電路(IC)、平板顯示和其他涉及精密結(jié)構(gòu)的器件的制造。程控構(gòu)圖部件產(chǎn)生對(duì)應(yīng)于比如IC每一層的圖案，該圖案成像在已涂敷輻射敏感材料(抗蝕劑)層的基底(例如硅片或玻璃板)的靶部上(例如包括一個(gè)或者多個(gè)電路小片(die)的某部分)。在這種成像...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。