技術(shù)編號：2773446
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及計測方法及曝光方法，更具體來說，涉及計測與投影光學(xué)系統(tǒng)的眩光相關(guān)的信息的計測方法、使用該計測方法的曝光方法以及使用該曝光方法的器件制造方法。背景技術(shù) 在形成半導(dǎo)體元件(集成電路等)、液晶顯示元件等電子器件的微細(xì)圖案時，采用如下的方法，即，將對所要形成的圖案以4～5倍左右的比例放大而形成的掩模或母版(reticle，以下總稱為“母版”)的圖案，使用投影曝光裝置縮小轉(zhuǎn)印到晶片等被曝光物體上。投影曝光裝置為了應(yīng)對伴隨著半導(dǎo)體元件(集成電路)的高集成化而...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。