技術編號：2775028
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用來去除涂覆至一基板的層的邊緣區(qū)域且用來(尤其以光阻層)涂布一基板的一種方法及裝置。此外，本發(fā)明涉及一種基板，在其上涂覆一層面，詳細的說該層面為用來顯微光刻處理中的光阻層，根據(jù)本發(fā)明將該層的邊緣區(qū)域去除。背景技術 在涂布基板，諸如晶片、屏蔽坯體(maskblank)、光罩或用來LCD顯示器中的基板的過程中，基板的周邊區(qū)域及邊緣也被涂布。然而，這些區(qū)域的涂布是我們所不期望的，因為與操作工具(例如真空固持設備)的接觸易于導致發(fā)生磨損(其可污染基板)。...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。