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液浸曝光工藝用浸漬液及使用該浸漬液的抗蝕劑圖案形成方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2776973

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本發(fā)明涉及適合用于液浸曝光工藝的液體(以下記為浸漬液)以及使用該浸漬液的抗蝕劑圖案形成方法,該浸漬液是在液浸曝光(Liquid Immersion Lithography)工藝中,其中在平板印刷曝光的光到達(dá)抗蝕劑膜的路徑的至少上述抗蝕劑膜上,介在折射率比空氣大的給定厚度的液體的狀態(tài)下,對(duì)上述抗蝕劑膜進(jìn)行曝光,從而提高抗蝕劑圖案的分辨率的構(gòu)成。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體裝置、液晶裝置等各種電子裝置的精細(xì)結(jié)構(gòu)的制造中,常常使用平板印刷法,但是隨著裝置結(jié)構(gòu)的精細(xì)化,對(duì)平...
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