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投影光學(xué)系統(tǒng)的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2778014

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本發(fā)明涉及一種投影光學(xué)系統(tǒng),具體地,涉及一種具有高數(shù)值孔徑的投影光學(xué)系統(tǒng)。背景技術(shù) 平版印刷工藝普遍使用于半導(dǎo)體元件的制造,例如集成電路(IC)、LSI、液晶元件、微構(gòu)圖部件以及微機(jī)械部件。用于光刻的投影曝光裝置通常包括具有光源的照明光學(xué)系統(tǒng)和投影光學(xué)系統(tǒng)。來(lái)自照明光學(xué)系統(tǒng)的光照亮具有給定圖案的刻線(第一對(duì)象),投影光學(xué)系統(tǒng)將刻線圖案(第一對(duì)象)的像轉(zhuǎn)印到感光基板(第二對(duì)象)的區(qū)域上。通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)還可以減小刻線圖案的像的大小,從而在基板上產(chǎn)生較小的刻線...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。

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