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一種降低浸沒式光刻技術(shù)中光學(xué)部件被水溶液沾污的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:2778336

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本發(fā)明涉及集成電路制造工藝,特別涉及。背景技術(shù) 伴隨集成電路制造工藝的不斷進(jìn)步,線寬的不斷縮小,半導(dǎo)體器件的面積正變得越來越小,半導(dǎo)體的布局已經(jīng)從普通的單一功能分離器件,演變成整合高密度多功能的集成電路;由最初的集成電路(IC)隨后到大規(guī)模集成電路(LSI),超大規(guī)模集成電路(VLSI),直至今天的特大規(guī)模集成電路(ULSI),器件的面積進(jìn)一步縮小,功能更為全面強(qiáng)大。考慮到工藝研發(fā)的復(fù)雜性,長期性和高昂的成本等等不利因素的制約,如何在現(xiàn)有技術(shù)水平的基礎(chǔ)上進(jìn)...
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