技術(shù)編號(hào)：2780865
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于基板顯影、蝕刻等處理的基板處理裝置及基板處理方法、及應(yīng)用該法的圖案形成方法。具體來說，本發(fā)明涉及對(duì)液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display以下稱LCD)、等離子體顯示板(以下稱PDP)等的制造工序中使用的大型光掩模等大型基板進(jìn)行處理中適用的基板處理裝置及基板處理方法，及應(yīng)用該方法的圖案形成方法。背景技術(shù) 在LCD及PDP的制造工序中，使用光刻法形成細(xì)微圖案。此外，為形成細(xì)微圖案通常須使用多張被稱作光掩模的基板。該光掩模一般是...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。