技術(shù)編號：2781145
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種對準(zhǔn)裝置和方法，尤其是應(yīng)用于光刻的對準(zhǔn)裝置和方法。背景技術(shù) 光刻裝置是一種可施加希望圖案到基片的目標(biāo)部分的設(shè)備。光刻裝置可用于，例如，制造集成電路(ICs)。在這種情況下，圖案結(jié)構(gòu)，如掩模，可用于產(chǎn)生對應(yīng)于集成電路各層的電路圖案，該圖案可成像于帶有一層輻射敏感材料(保護(hù)層)的基片(即硅晶片)的目標(biāo)部分(包括一個或多個芯片)。一般地，單個基片包含接續(xù)曝光的相鄰目標(biāo)部分的電路。已知的光刻裝置包括所謂的步進(jìn)曝光機(jī)，其中各個目標(biāo)部分受到一次照射將整個...
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