技術(shù)編號(hào):2781214
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明一般涉及保持光刻系統(tǒng)中光學(xué)結(jié)構(gòu)之間光學(xué)縫隙的設(shè)備和方法及光刻系統(tǒng),具體涉及光刻系統(tǒng)中的膠片和標(biāo)線片框架。背景技術(shù) 在制造集成電路時(shí),利用光刻和投影曬印技術(shù)。在光刻術(shù)中,標(biāo)線片上包含的圖像投影到有光敏抗蝕劑的晶片上。標(biāo)線片或掩模用于轉(zhuǎn)移所需圖像到硅晶片。半導(dǎo)體晶片表面涂敷光敏抗蝕劑,因此,圖像可以蝕刻在其上面。膠片可以與標(biāo)線片結(jié)合使用以保護(hù)標(biāo)線片表面免遭損傷。膠片通常安裝到標(biāo)線片的堅(jiān)實(shí)框架。光刻術(shù)中使用的一些光波長(zhǎng)對(duì)于大氣中氧的吸收很敏感。因此,當(dāng)這種...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。