技術(shù)編號：2781432
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明系有關(guān)于一種光刻裝置以及一種制造光刻裝置的方法。背景技術(shù) 光光刻技術(shù)是一種印刷上的復(fù)制方法，其中借助曝光將圖案印在材料上。光光刻技術(shù)在印刷技術(shù)及半導(dǎo)體技術(shù)上是很重要的。在半導(dǎo)體技術(shù)中，借助光光刻技術(shù)，可將一光罩的結(jié)構(gòu)信息轉(zhuǎn)載至一半導(dǎo)體基板(例如一硅晶圓)上的光阻。在隱藏圖像的顯影之后，結(jié)構(gòu)信息可借助蝕刻而轉(zhuǎn)載至設(shè)于光阻下方的半導(dǎo)體基材上，之后，光阻層則被移除。該制程的重復(fù)，以不同而彼此相連續(xù)的層以及對單一圖案的精密調(diào)整，在制造集成電路(所謂的微芯片)...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。