技術(shù)編號：2783085
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種減少光阻粗糙度的方法，特別是有關(guān)于一種。光刻術(shù)(Photolithography)可說是整個半導體工藝中，最重要的步驟之一。凡是與MOS組件結(jié)構(gòu)相關(guān)的，如各層薄膜的圖案(Pattern)及摻雜(Doping)的區(qū)域，都由光刻術(shù)步驟來決定。而且在要求電路集成化越來越高的情況下，整個電路組件大小的設(shè)計也被迫不停往尺寸縮小的方向前進，是否能繼續(xù)的往更小的線寬進行，也決定于光刻術(shù)工藝技術(shù)的發(fā)展。一般光刻術(shù)工藝，包括光阻涂布(Coating)、軟烤...
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