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多平臺(tái)光刻機(jī)硅片水平控制和自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)及其實(shí)現(xiàn)方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2786857

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本發(fā)明涉及一種用于半導(dǎo)體制造的光刻設(shè)備,尤其涉及一種多平臺(tái)光 刻機(jī)硅片水平控制和自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)。此外,本發(fā)明還涉及一種實(shí)現(xiàn)多平臺(tái) 光刻機(jī)硅片水平控制和自動(dòng)對(duì)焦的方法。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展和加工制造技術(shù)的進(jìn)步,半導(dǎo)體器件的關(guān)鍵尺寸(CD Critical Demotion)越來(lái)越小,加工制造的難度也越來(lái)越大。在 現(xiàn)有的半導(dǎo)體制造工藝中,半導(dǎo)體器件主要通過(guò)光刻將設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到各 種生長(zhǎng)在硅片表面的薄膜上,然后通過(guò)各種刻蝕手段形成圖形。在這當(dāng)中, 光刻技術(shù)...
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