技術(shù)編號：2789080
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及投影光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)特性的測量方法，以及用于該方法的初縮掩模版(對準標記版，reticle)。例如，本發(fā)明適合測量用在例如制造半導(dǎo)體器件、液晶顯示器件、薄膜磁頭等的光刻工藝中的投影曝光設(shè)備的投影光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)特性比如波前像差。背景技術(shù) 半導(dǎo)體器件、液晶顯示器件、薄膜磁頭等的制造基于光刻工藝，使用投影曝光設(shè)備將光掩?；蛘叱蹩s掩模版(對準標記版)(以后僅簡單地提及“初縮掩模版”)的圖案通過投影光學(xué)系統(tǒng)(例如投影透鏡)投射到光敏襯底上。在這樣的投影曝光設(shè)...
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