技術(shù)編號：2789724
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及制造LSI、超LSI等半導(dǎo)體裝置或液晶顯示板時作為光掩膜或中間研 模(reticule)的防塵罩而使用的光刻用防塵薄膜組件(pellicle)及其制造方法。背景技術(shù)制造LSI、超LSI等半導(dǎo)體器件或液晶顯示器時，借光掩膜或中間掩模等曝光用原 版(在本說明書中統(tǒng)稱為“光掩膜”。)往半導(dǎo)體晶圓或液晶用原板照射曝光用光，轉(zhuǎn)印光 掩膜圖案，以形成半導(dǎo)體器件或液晶顯示器的圖案。因此，若此時光掩膜上附著有贓物等異物，曝光用光就會被光掩膜表面上附著的 贓物等異...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。